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日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度 UV-208/UV-312所謂UV(紫外線)臭氧清洗裝置,是指照射特定波長的紫外線,生成臭氧(O3),利用該生成的臭氧使有機(jī)化合物氧化·分解,從而去除工件表面的有機(jī)物污染,進(jìn)行表面改性的UV臭氧清洗裝置。
產(chǎn)品型號：UV-208/UV-312廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時(shí)間：2024-10-11訪 問 量：228
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日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度 UV-208/UV-312 特點(diǎn)介紹
所謂UV(紫外線)臭氧清洗裝置,是指照射特定波長的紫外線,生成臭氧(O3),利用該生成的臭氧使有機(jī)化合物氧化·分解,
從而去除工件表面的有機(jī)物污染,進(jìn)行表面改性的UV臭氧清洗裝置。
紫外線(UV)臭氧紫外UV-208、UV-312在UV光源中采用了高密度網(wǎng)格形狀的低壓水銀燈。
采用高密度網(wǎng)格狀燈，可均勻照射整個(gè)工作區(qū)域。
日本techvision紫外線臭氧UV清洗裝置高精度 UV-208/UV-312 規(guī)格參數(shù)
1使用高密度UV柵格燈。
2對工作表面照射均勻。
3節(jié)省空間、緊湊設(shè)計(jì)。
4簡單的實(shí)用程序。
5易于操作，內(nèi)置安全功能。
通過臭氧清洗和UV（紫外線）照射的表面改性，表面上的污垢（疏水性）被去除和清洗，潤濕性（變成親水性）（水滴擴(kuò)散）。
潤濕性的變化可以通過液體與固體表面接觸時(shí)的接觸角的變化（減?。﹣泶_認(rèn)。潤濕性的改變也會(huì)導(dǎo)致附著力的提高。
1清洗半導(dǎo)體晶片，光掩模，玻璃基板和光學(xué)元件。
2樹脂零件的表面改性。
3以提高粘附性，涂層，印刷，氣相沉積，焊料等的粘附性。
4改善工作表面的潤濕性。
UV臭氧清洗原理
臭氧生成大氣中的氧氣（O2）吸收波長為184.9 nm的紫外線，生成臭氧（O3）
臭氧分解產(chǎn)生的臭氧（O3）還能吸收波長為253.7 nm的紫外線，產(chǎn)生O2和活性氧（O*）
有機(jī)物分解（清洗、表面改性）非常不穩(wěn)定的活性氧（O*）與有機(jī)化合物結(jié)合，氧化分解為H2O，CO2，NOx等氣體（與有機(jī)化合物結(jié)合，進(jìn)行清洗和表面改性）。
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